一种像素限定层结构及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种像素限定层结构的制备方法，包括提供基板，在基板上间隔设置多个像素界定结构；配制聚噻吩衍生物溶液，将聚噻吩衍生物溶液涂布于基板和多个像素界定结构的上表面和侧表面，形成聚噻吩衍生物层；通过掩膜板使像素界定结构的上表面的聚噻吩衍生物层曝光转变为疏有机溶剂层，基板上的聚噻吩衍生物层避光，像素界定结构的侧表面的聚噻吩衍生物层受到光衍射转变为亲有机溶剂层，亲有机溶剂层的材质的极性大于乙酸乙酯的极性；通过显影过程，去除基板上的聚噻吩衍生物层，得到像素限定层结构，其中，像素界定结构的上表面为疏有机溶剂层，侧表面为亲有机溶剂层；制得的像素限定层结构可以缓解喷墨打印过程中液滴混淆造成的混色。

【技术实现步骤摘要】
一种像素限定层结构及其制备方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种像素限定层结构及其制备方法。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)和量子点-有机发光二极管(QLED)的低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点被作为下一代显示技术。无论是OLED还是QLED的工艺中，喷墨打印技术都是一个无法逾越的话题。采用喷墨打印的方式可以极大的避免材料的浪费，节省了材料的生产成本。因此，喷墨打印技术的广泛应用无疑是显示行业一个研究热点。目前，喷墨打印的工艺还不是十分的成熟，存在诸多待解决的问题。在常规喷墨打印中为了限制量子点或发光材料液滴在印刷时四周溢出，像素限定层结构(Bank)中的像素界定结构顶部设置成平坦结构，但是这会导致在打印过程中的液滴容易滴落在像素界定结构顶部，导致相邻不同颜色的量子点或者发光材料造成混淆，容易形成混色，影响色纯度。因此，需要一种能够缓解混色的像素限定层结构。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种像素限定层结构，通过在像素界定结构的上表面设置疏有机溶剂层，侧表面设置亲有机溶剂层，使得喷墨打印过程中液滴不会滞留在像素界定结构顶部，有利于液滴与侧表面接触，缓解喷墨打印本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种像素限定层结构的制备方法，其特征在于，包括：提供基板，在所述基板上间隔设置多个像素界定结构；配制聚噻吩衍生物溶液，将所述聚噻吩衍生物溶液涂布于所述基板和多个所述像素界定结构的上表面和侧表面，形成聚噻吩衍生物层；通过掩膜板使所述像素界定结构的上表面的所述聚噻吩衍生物层曝光转变为疏有机溶剂层，所述基板上的所述聚噻吩衍生物层避光，所述像素界定结构的侧表面的所述聚噻吩衍生物层受到光衍射转变为亲有机溶剂层，所述亲有机溶剂层的材质的极性大于乙酸乙酯的极性；通过显影过程，去除所述基板上的所述聚噻吩衍生物层，得到像素限定层结构，其中，所述像素界定结构的上表面为所述疏有机溶剂层，侧表面为所述亲有机溶剂层...

【技术特征摘要】
1.一种像素限定层结构的制备方法，其特征在于，包括：提供基板，在所述基板上间隔设置多个像素界定结构；配制聚噻吩衍生物溶液，将所述聚噻吩衍生物溶液涂布于所述基板和多个所述像素界定结构的上表面和侧表面，形成聚噻吩衍生物层；通过掩膜板使所述像素界定结构的上表面的所述聚噻吩衍生物层曝光转变为疏有机溶剂层，所述基板上的所述聚噻吩衍生物层避光，所述像素界定结构的侧表面的所述聚噻吩衍生物层受到光衍射转变为亲有机溶剂层，所述亲有机溶剂层的材质的极性大于乙酸乙酯的极性；通过显影过程，去除所述基板上的所述聚噻吩衍生物层，得到像素限定层结构，其中，所述像素界定结构的上表面为所述疏有机溶剂层，侧表面为所述亲有机溶剂层。2.如权利要求1所述的像素限定层结构的制备方法，其特征在于，所述聚噻吩衍生物溶液中的聚噻吩衍生物具有如式(Ⅰ)所示的结构，其中，R1、R2独立地选自C1-C25的烷基、C1-C25的卤代烷基和C6-C25的芳香基中的至少一种，所述烷基为直链或带有支链的链状烷基，所述卤代烷基为直链或带有支链的卤代烷基，n为100-180的整数。3.如权利要求2所述的像素限定层结构的制备方法，其特征在于，所述芳香基结构为时，R3选自C1-C25的烷基、C1-C25的烷氧基和C1-C25的烯基中的至少一种；R4、R5、R6独立地选自H、C1-C25的烷基、C1-C25的烷氧基和C1-C25的卤代烷基中的至少一种。4.如权利要求1所述的像素限定层结构的制备方法，其特征在于，所述聚噻...

【专利技术属性】
技术研发人员：查宝，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44