温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种MIM电容器及其制造方法，所述方法包括：提供半导体衬底，并在所述半导体衬底的表面形成下极板铜金属层；在所述下极板铜金属层的表面形成第一铝金属薄膜；在所述第一铝金属薄膜的表面形成氧化铝介质层；在所述氧化铝介质层的表面形成第二铝金属薄膜；在...
该专利属于德淮半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德淮半导体有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。