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膜层沉积装置制造方法及图纸
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文档序号:19831825
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本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种膜层沉积装置。所述膜层沉积装置包括:调节部,包括朝向晶圆表面设置的分隔面以及位于所述分隔面的多个喷口,所述喷口用于将反应物传输至所述晶圆表面;控制部,用于分别控制每一所述喷口是否开启,实现所述反应物...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。
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