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本发明公开了一种晶硅太阳能SE电池刻蚀使用无机碱的方法，包括以下步骤：S1、扩散：对SE电池进行两步扩散；其中，第一步：扩散温度设置为730℃‑780℃，氧流量设置为800‑1200ml/min，扩散时间设置为600s；第二步：扩散温度设置...
该专利属于通威太阳能（安徽）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过通威太阳能（安徽）有限公司授权不得商用。

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