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本发明提供一种蒸镀源、蒸镀装置，属于显示技术领域，其可解决现有的真空成膜装置的成膜均一性较差的问题。本发明的蒸镀源包括蒸镀本体，其与待进行镀膜的基板相对设置，用于向所述基板表面沉积蒸镀材料，所述蒸镀源还包括：设置在所述蒸镀本体与所述基板之间...
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