下载一种半导体器件及其制作方法的技术资料

文档序号:19782040

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本发明提供一种半导体器件及其制作方法,该半导体制作方法包括:提供第一衬底;在所述第一衬底的表面形成第一阱区;在所述第一阱区中形成第二阱区;提供第二衬底,所述第二衬底导电类型与所述第一衬底导电类型相同;在所述第二衬底的表面形成第三阱区;将所述...
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