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本发明公开了一种支架型射频瓷介电容器表面处理的方法，包括以下步骤：清洗；在第一温度的真空环境下干燥第一预定时长，所述第一预定时长不少于1h；取出电容器，将电容器从所述第一温度降温至第二温度以下；将电容器放入氟素表面处理剂中完全浸泡第二预定时...
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