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本发明提供一种真空蒸镀装置，所述真空蒸镀装置包括：真空腔室，所述真空腔室定义对被蒸镀体进行蒸镀工序的蒸镀空间，并能够维持成真空状态；蒸发源单元，所述蒸发源单元能够移动地设置在所述真空腔室内，包含收容有向所述被蒸镀体蒸镀的蒸镀物质的蒸发源；及...
该专利属于佳能特机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过佳能特机株式会社授权不得商用。

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