温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及粉末冶金技术领域，更具体地公开了一种散裂靶靶球表面金属等离子体浸没离子注入与沉积复合强化处理方法，所述强化处理方法包括散裂靶靶球的预处理，TiSiN、TiAlN、TiAlSiN、TiAlSiN/h‑BN离子注入与沉积等步骤。本发明...
该专利属于中国科学院近代物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院近代物理研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。