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本发明涉及使用高蒸汽压气雾剂进行原位清洁。一种用于清洁衬底处理系统的室的方法包括：将室保持在第一预定压强；以及在室内没有衬底的情况下，通过喷嘴组件从流体源提供流体以及通过喷嘴组件将流体注入到室中。流体源保持在大于第一预定压强的第二预定压强。...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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