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本发明提供一种坩埚和蒸镀装置，属于显示装置的制造技术领域，其可解决现有的坩埚本体受热后的整体温度均匀性差的问题。本发明的坩埚，包括具有容纳腔的坩埚本体，还包括设置在所述容纳腔中的导热组件，所述导热组件与所述坩埚本体的内壁连接，且贯穿所述容纳...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。