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本发明提供一种晶圆标记的监控方法和激光刻号机台对准位置的判定方法，该监测方法包括：在晶圆标记的水平面内，以两个相交方向扫描晶圆标记获得相应方向的两组波形信号；量测同一晶圆标记在两组波形信号中的直径长度；判断两组波形信号中直径长度的绝对值的差...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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