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本发明提供了一种工艺控制方法，所述工艺控制方法在现有APC系统提供的控制参数的基础上增加量测影响因子，通过对量测标准片进行特定工艺加工，利用不同量测机台分别测量所述量测标准片的一工艺尺寸得到多个尺寸值，将多个所述尺寸值的其中一个和一标准值的...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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