温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种双工位晶片清洗机，属于半导体清洗设备技术领域，包括架体，架体上设有两组左右镜像设置清洗工位；位于架体左端的清洗工位包括若干一字排列的顶端设有开口的清洗槽、清洗篮放置台，清洗槽的左侧设有纵向往复运动装置，纵向往复运动装置上设有...
该专利属于山东联盛电子设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东联盛电子设备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。