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本发明揭露一种金属构件以及一种具有所述金属构件的处理腔室，更特定而言，本发明是有关于一种金属构件以及一种装备有所述金属构件的处理腔室，通过将不具有孔的阳极化障壁层形成于用于显示器或半导体的制造工艺以及具有其的处理腔室中的金属构件的表面上，所...
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