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本申请公开了一种干法刻蚀设备及刻蚀方法，该刻蚀设备包括：刻蚀装置，包括电极线圈和调节机构，调节机构与电极线圈连接，用于调整电极线圈与基板之间的距离；检测装置，用于检测基板的刻蚀程度；控制器，耦接调节机构和检测装置，用于获取基板的刻蚀程度，并...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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