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本发明公开了一种多晶硅铸锭方法,包括:在坩埚底部铺设多个呈阵列排布的单晶硅片,相邻单晶硅片之间具有预设间距;在预设间距内填充多晶硅颗粒;在单晶硅片上放置硅料,对坩埚进行加热,使硅料熔化;当所有硅料熔化后,停止加热,控制熔融状态的硅料在单晶硅...该专利属于晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种多晶硅铸锭方法,包括:在坩埚底部铺设多个呈阵列排布的单晶硅片,相邻单晶硅片之间具有预设间距;在预设间距内填充多晶硅颗粒;在单晶硅片上放置硅料,对坩埚进行加热,使硅料熔化;当所有硅料熔化后,停止加热,控制熔融状态的硅料在单晶硅...