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本实用新型提供化学机械研磨系统，包括：研磨平台；研磨垫，位于研磨平台的上表面；研磨头，位于研磨垫的上方；研磨液供给系统，用于向研磨垫的表面提供研磨液，研磨液供给系统包括第一研磨液供给源、第二研磨液供给源、输液管及喷头；其中，输液管一端与第一...
该专利属于睿力集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过睿力集成电路有限公司授权不得商用。

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