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本发明公开一种均匀性光伏硅片刻蚀机构，包括控制终端、进料口、刻蚀槽、硅片清洗喷头、碱洗槽、去PSG槽、分刀式吹干机和出料口，控制终端底侧设有进料口，进料口与刻蚀槽固定连接，刻蚀槽内安装有硅片清洗喷头，刻蚀槽一端与碱洗槽固定连接，碱洗槽一端与...
该专利属于江苏燕山光伏设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏燕山光伏设备有限公司授权不得商用。

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