下载承载装置、反应腔室及半导体加工设备的技术资料

文档序号:19448021

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本发明提供一种承载装置、反应腔室及半导体加工设备,其包括可升降的基座,在该基座上竖直设置有沿其轴向对称分布的至少三个主支撑柱,主支撑柱的上端高于基座的上表面,用以承载托盘。并且,承载装置还包括保护组件,该保护组件用于在置于主支撑柱上的所述托...
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