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本发明公开一种用于抚平痘坑痘印的组合物及其在化妆品中的应用，属于化妆品领域，包括白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，所述白芨、续断、川芎、赤芍和甘草的重量配比为(1～5)：(1～5)：(1～5)：(1～4)：(1～3)；该组合物可在护肤类化妆品或...
该专利属于北京明弘科贸有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京明弘科贸有限责任公司授权不得商用。

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