【技术实现步骤摘要】
一种用于抚平痘坑痘印的组合物及其在化妆品中的应用
本专利技术涉及一种用于抚平痘坑痘印的组合物及其在化妆品中的应用，属于化妆品领域。
技术介绍
大多数的年轻人在青春期都会因为自身身体的变化及不卫生、不合理的处理办法，导致肌肤上留下多种成因的痘坑痘印。痘坑处周围肌肤凹凸不平，多数表现为红肿或暗黑，此处肌肤特别敏感更加容易发生感染和发炎等肌肤症状。痘坑痘印因为与周围肌肤颜色不同，影响整体皮肤的光泽度、皮肤亮度，同时部分区域的胶原蛋白发生了破坏，严重影响肌肤弹性，给人一种暗黑、肌肤凹凸不平、极不健康的观感。现有中国专利“一种复平凹疤痘坑的中药还原液”(申请号为201610476625.4)，公开了该中药还原液，由以下各原料制备而成：全蝎、防己、乳香、没药、冬虫夏草、灵芝、五倍子、银杏叶、西洋参、鸦胆子、狗脊、骨碎补、天麻、黄芪、续断、防风、甘草、紫草、藁本、白及、菊花、三七、穿山甲、马钱子、凤仙透骨草、莪术、威灵仙、土鳖虫、苍术、蝉蜕和珍珠。上述中药还原液的组分较多，药性复杂，且含有冬虫夏草、灵芝、西洋参等价格昂贵的中药材，导致成本居高。另有中国专利“一种祛痘组合物及其应...
【技术保护点】
1.一种用于抚平痘坑痘印的组合物，其特征在于，包括白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，所述白芨、续断、川芎、赤芍和甘草的重量配比为(1～5)：(1～5)：(1～5)：(1～4)：(1～3)。
【技术特征摘要】
1.一种用于抚平痘坑痘印的组合物，其特征在于，包括白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，所述白芨、续断、川芎、赤芍和甘草的重量配比为(1～5)：(1～5)：(1～5)：(1～4)：(1～3)。2.根据权利要求1所述的一种用于抚平痘坑痘印的组合物，其特征在于，所述的白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，分别采用白芨提取物、续断提取物、川芎提取物、赤芍提取物和甘草提取物，各提取物按照以下方法制备：分别将中草药白芨、续断、川芎、赤芍、甘草粉碎，按照料液重量比为1:(30～50)加入去离子水，浸泡1小时，热回流提取2-3小时，温度控制在75-85℃，即分别得滤液形式的各提取物。3.根据权利要求2所述的一种用于抚平痘坑痘印的组合物，其特征在于，所述中草药白芨、续断、川芎、赤芍、甘草粉碎在提取前粉碎过60目筛。4.一种权利要求1所述组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述化妆品为护肤类化妆品或清洁类化妆品。5.根据权利要求4所述的组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述化妆品为乳液，按重量百分比计，该乳液包括：0.4％-0.8％的AMPHISOLK、4％-8％的丁二醇、0.04％-0.1％的乙基己基甘油、1％-3％的戊二醇、2％-6％的海藻糖、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.05％-5％的组合物、0.4％-0.8％的己二醇、0.4％-0.8％的CARBOMER-TR、0.4％-0.8％的EMULIM22、4％-8％的角鲨烷、1％-5％的DM10、1％-5％的VE醋酸酯、1％-5％的牛油果、0.4％-0.8％的TEA，余量的去离子水；上述乳液的具体制备步骤为：1)将配方量的CARBOMER-TR溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；2)向步骤1)的溶液中，分别加入配方量的AMPHISOLK、丁二醇、乙基己基甘油、戊二醇、海藻糖、EDTA-2Na、组合物、己二醇至完全溶解，得水相物料；3)分别将EMULIM22、角鲨烷、DM10、VE醋酸酯、牛油果完全溶解，得油相物料；4)将步骤3)得到的油相物料倒入步骤2)的水相物料内，继续加热搅拌至完全溶解；5)待上述所有物料溶解完全后，继续搅拌降温至45℃以下，添加TEA，即得所述乳液。6.根据权利要求4所述的组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述化妆品为凝露，按重量百分比计，该凝露包括：4％-8％的丁二醇、0.1％-0.5％的透明质酸、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.4％-0.8％的卡波940、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.5％的乙基己基甘油、1％-5％的戊二醇、0.1％-0.5％的精氨酸，余量的去离子水；上述凝露的具体制备步骤为：1)将配方量的卡波940溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；2)向步骤1)的溶液中，分别加入丁二醇、透明质酸...
【专利技术属性】
技术研发人员：解勇，王雅琴，许艳勇，李一泽，王天宝，
申请(专利权)人：北京明弘科贸有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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