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基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质制造方法及图纸
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文档序号:19397797
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本发明提供如下技术,其具有:保持基板的基板保持具;对所述基板进行处理的处理室;设置于所述处理室内且供给对所述基板进行处理的处理气体的气体供给部;放射对所述处理室内进行加热的热能的加热装置;以及设置于所述处理室内且吸收从所述加热装置放射出的热...
该专利属于株式会社国际电气所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社国际电气授权不得商用。
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