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一种在制造包括半导体或LCD的物品中使用的过程反应室的排气通道的清洁装置。排气通道的清洁装置包括壳体,该壳体具有连接至排气通道的上游端的流入管、连接至排气通道的下游端的流出管和设置在流入管与流出管之间的连接管。壳体中的射频发生器经由相应的线...该专利属于雷特罗萨米科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过雷特罗萨米科技有限责任公司授权不得商用。
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一种在制造包括半导体或LCD的物品中使用的过程反应室的排气通道的清洁装置。排气通道的清洁装置包括壳体,该壳体具有连接至排气通道的上游端的流入管、连接至排气通道的下游端的流出管和设置在流入管与流出管之间的连接管。壳体中的射频发生器经由相应的线...