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本实用新型涉及一种基板处理装置，基板处理装置包括：载体单元，其以搭载基板的状态沿着规定的路径移动，并且在规定的工艺位置上进行对基板的化学机械研磨工艺；载体固定部，其在工艺位置上使得载体单元固定；异物吸入部，其从载体固定部吸入异物，并且可以获...
该专利属于凯斯科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过凯斯科技股份有限公司授权不得商用。

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