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本发明提供一种晶圆表面平坦化方法,包括以下步骤:1)提供一晶圆,所述晶圆包括相对的第一表面及第二表面;2)在所述晶圆的第一表面形成第一固化平坦层;3)对所述晶圆的第二表面进行研磨处理;4)去除所述第一固化平坦层;5)在所述晶圆研磨处理后的第...该专利属于上海新昇半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海新昇半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种晶圆表面平坦化方法,包括以下步骤:1)提供一晶圆,所述晶圆包括相对的第一表面及第二表面;2)在所述晶圆的第一表面形成第一固化平坦层;3)对所述晶圆的第二表面进行研磨处理;4)去除所述第一固化平坦层;5)在所述晶圆研磨处理后的第...