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本发明公开了一种制作三维电极图形的辅助装置，包括阻挡板，在阻挡板上设有上下贯穿的通孔，在阻挡板下表面设有至少两个对准凸台；对准凸台与待加工晶片上设置的对准孔对应以用于插入该对准孔中；通孔的位置与待加工晶片上需图形化的位置对应，通孔的深度和横...
该专利属于中国电子科技集团公司第二十六研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第二十六研究所授权不得商用。

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