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本发明提供一种COA型阵列基板及量测色阻层上过孔尺寸的方法。该COA型阵列基板通过将薄膜晶体管的漏极设计为包括对应色阻层的第一过孔的漏极本体以及由所述漏极本体的边缘向外突出形成的第一延伸部、第二延伸部及第三延伸部，能够提高色阻层上的第一过孔...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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