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本实用新型公开了一种真空热处理炉上的加热体双层加热装置,与真空热处理炉相对应,其特征在于:包括设置在加热体内的内加热元件和外加热元件,以及加热元件外部的保温层和外壳;所述外加热元件设置在内加热元件的下部外侧;所述内加热元件和外加热元件通过连...该专利属于青岛精诚华旗微电子设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过青岛精诚华旗微电子设备有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种真空热处理炉上的加热体双层加热装置,与真空热处理炉相对应,其特征在于:包括设置在加热体内的内加热元件和外加热元件,以及加热元件外部的保温层和外壳;所述外加热元件设置在内加热元件的下部外侧;所述内加热元件和外加热元件通过连...