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即使在低水温条件下(水温为5～10℃)也抑制反渗透膜装置中污垢的产生并继续长时间稳定运转而不需要调节pH、添加污垢分散剂。基于反渗透膜装置的供水和/或浓缩水的铝离子和/或铁离子浓度，管理反渗透膜装置的运转。不仅二氧化硅对二氧化硅污垢导致的反...
该专利属于栗田工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过栗田工业株式会社授权不得商用。

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