反渗透膜装置的运转管理方法及反渗透膜处理系统制造方法及图纸

技术编号:19245004 阅读:39 留言:0更新日期:2018-10-24 07:04
即使在低水温条件下(水温为5~10℃)也抑制反渗透膜装置中污垢的产生并继续长时间稳定运转而不需要调节pH、添加污垢分散剂。基于反渗透膜装置的供水和/或浓缩水的铝离子和/或铁离子浓度,管理反渗透膜装置的运转。不仅二氧化硅对二氧化硅污垢导致的反渗透膜的通量降低产生较大影响,而且共存的铝离子、铁离子也对二氧化硅污垢导致的反渗透膜的通量降低产生较大影响。为了使反渗透膜装置的运转长期稳定化,必需适当管理供水和/或浓缩水中的铝离子和/或铁离子浓度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】反渗透膜装置的运转管理方法及反渗透膜处理系统
本专利技术涉及一种在反渗透膜装置中在低水温条件下(例如水温为5~10℃)也能够继续长时间稳定地运转的反渗透膜装置的运转管理方法及反渗透膜处理系统。在本专利技术中,“反渗透膜”是指包含“反渗透膜”和“纳米滤膜”的广义的“反渗透膜”。
技术介绍
利用由表面致密层和多孔质支撑层构成且溶剂分子可通过而溶质分子不能通过的反渗透膜,能够对海水进行一步淡水化。接着,反渗透膜的利用领域扩大,开发了在低压力条件下能够运转的低压反渗透膜,反渗透膜也利用于下水二次处理水、工厂排水、河川水、湖沼水、垃圾填埋场浸出水等的净化。由于反渗透膜对溶质的阻止率高,因此,通过反渗透膜处理得到的透过水具有良好的水质,因而能够有效利用于各种用途。如果反渗透膜装置继续运转,则处理水量逐渐降低,因此,重要的是适当管理反渗透膜装置的供水水质以及运转方法。特别是,在低水温条件下,产生以二氧化硅为主体的污垢的可能性高,会造成膜面的二氧化硅污垢导致的通量降低的问题。在自来水为原水的情况下,供水的二氧化硅浓度约为10~20mg/L。相对于此,在低水温特别是水温为5℃的条件下,由于二氧化硅的溶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种反渗透膜装置的运转管理方法,其特征在于,当用反渗透膜装置对原水进行处理时,基于导入所述反渗透膜装置的被称为供水的水和/或该反渗透膜装置的浓缩水的铝离子和/或铁离子浓度,管理所述反渗透膜装置的运转。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.18 JP 2016-0557261.一种反渗透膜装置的运转管理方法,其特征在于,当用反渗透膜装置对原水进行处理时,基于导入所述反渗透膜装置的被称为供水的水和/或该反渗透膜装置的浓缩水的铝离子和/或铁离子浓度,管理所述反渗透膜装置的运转。2.如权利要求1所述的反渗透膜装置的运转管理方法,其特征在于,基于所述供水和/或浓缩水的铝离子和/或铁离子浓度,管理以下1)~9)中任意一个以上,1)原水作为供水是否适当;2)供水的水温;3)浓缩倍率或回收率;4)反渗透膜的供水供给压力、浓缩水压力或处理水压力;5)浓缩水的水量;6)连续运转期间;7)清洗时间;8)清洗频率;9)反渗透膜的更换时期。3.如权利要求1或2所述的反渗透膜装置的运转管理方法,其特征在于,基于所述供水和/或浓缩水的铝离子与铁离子的总浓度,进行所述管理。4.如权利要求1~3中任一项所述的反渗透膜装置的运转管理方法,其特征在于,以所需的连续运转期间、清洗时间、浓缩倍率以及供水水质中的任意一个以上为指标来设定所述铝离子和/或铁离子浓度。5.如权利要求1~4中任一项所述的反渗透膜装置的运转管理方法,其特征在于,进行所述管理以使所述浓缩水的铝离子浓度为0.4mg/L以下、铁离子浓度为0.8mg/L以下,或者使铝离子与铁离子的总浓度为1.0mg/L以下。6.如权利要求1~5中任一项所述的反渗透膜装置的运转管理方法,其特征在于,基于所述供水和/或浓缩水的铝离子和/或铁离子浓度以及二氧化硅浓度,进行所述管理。7.如权利要求6所述的反渗透膜装置的运转管理方法,其特征在于,进行所述管理以使所述浓缩水的二氧化硅浓度为80mg/L以下。8.如权利要求1~6中任一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员:龟田英邦小森英之
申请(专利权)人:栗田工业株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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