下载封装件及其形成方法的技术资料

文档序号:19241311

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一种方法,包括:形成多个介电层;在多个介电层中形成多个再分布线;蚀刻多个介电层以形成开口;填充开口以形成穿透多个介电层的介电通孔;在介电通孔和多个介电层上方形成绝缘层;在介电层中形成多个接合焊盘;以及通过混合接合将器件接合至绝缘层和多个接合...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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