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光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法技术
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文档序号:19239842
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提供能够兼顾图案的细微化和多灰阶的半色调掩模。在透明基板上具有相移膜和半透膜的层叠区域、以及由曝光光的光透过率比上述层叠区域高的半透膜构成的半透过区域,上述层叠区域具有与上述半透过区域和/或露出透明基板的透明区域接触的边界部,上述相移膜使曝...
该专利属于株式会社SK电子所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社SK电子授权不得商用。
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