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本发明公开了一种氮化硼薄膜的转移方法。本发明采用高分子聚合物作为辅助柔性外框，将低压化学气相沉积获得的单层六方氮化硼快速转移到目标衬底上，摆脱高分子聚合物残留的困扰，可以快速获得形状可控的六方氮化硼(h‑BN)薄膜样品，经多次转移可获得精确...
该专利属于厦门大学所有，仅供学习研究参考，未经过厦门大学授权不得商用。

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