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本发明提供一种精密光学器件抛光用阻尼布的及其制备方法，涉及抛光技术领域，包括从上到下依次设置的阻尼布基材层、热熔胶层和固定磨料层，所述阻尼布基材层的厚度为0.2‑0.4mm，所述热熔胶层的厚度为0.02‑0.04mm，所述固定磨料层的厚度为...
该专利属于安徽禾臣新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽禾臣新材料有限公司授权不得商用。

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