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本发明涉及一种线圈机构及磁控溅射装置。其中，线圈机构设于磁控溅射装置内的靶材的背面，以为磁控溅射装置提供磁场环境，其特征在于，所述线圈机构包括第一线圈单元，所述第一线圈单元包括由导电线构成的环形结构以及由导线构成的条形结构，所述条形结构位于...
该专利属于江西沃格光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江西沃格光电股份有限公司授权不得商用。

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