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本发明提供了一种利用磁控溅射法在硅衬底上制备氮化钛超导薄膜的方法，包括如下步骤：一、载入硅衬底：在真空条件下将硅衬底载入溅射腔体内；二、对溅射腔体抽取真空：将载入硅衬底后的溅射腔体进一步地抽取真空；三、硅衬底的表面清洁：利用惰性气体对硅衬底...
该专利属于中国科学院紫金山天文台所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院紫金山天文台授权不得商用。

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