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本发明公开了一种电子器件表面处理方法及电子产品。一种电子器件表面处理方法包括如下步骤：(1)将电子器件浸入表面处理液中；(2)将电子器件自表面处理液中取出后放置在10‑200℃，湿度小于40％RH的环境中成膜5‑60min，以在电子器件的表...
该专利属于歌尔股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过歌尔股份有限公司授权不得商用。

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