一种电子器件表面处理方法及电子产品技术

本发明专利技术公开了一种电子器件表面处理方法及电子产品。一种电子器件表面处理方法包括如下步骤：(1)将电子器件浸入表面处理液中；(2)将电子器件自表面处理液中取出后放置在10‑200℃，湿度小于40％RH的环境中成膜5‑60min，以在电子器件的表面上形成3‑50nm的膜层。本发明专利技术的电子器件表面处理方法操作简单，成本低。处理后的电子器件可有效增强抵抗汗液或盐雾等外界杂质腐蚀的能力，电子器件可靠性高。

【技术实现步骤摘要】
一种电子器件表面处理方法及电子产品
本专利技术涉及材料表面处理领域，更具体地，涉及一种电子器件表面处理方法及电子产品。
技术介绍
随着电子行业的快速发展，智能电子产品得到了广泛普及。上述智能电子产品可例如为智能手机、智能手环、智能手表、VR(VirtualReality,虚拟现实)头显、AR(AugmentedReality，增强现实技术)头显等。现有的智能电子产品可穿戴性强，通常需要长时间暴露在外界环境中，并与用户身体长时间接触。而智能电子产品上设有出声孔，汗液或盐雾等外界杂质很容易自出声孔进入智能电子产品内部，造成智能电子产品腐蚀失效。因此，如何提高电子产品的耐汗液、耐盐雾等性能成为本领域亟需解决的技术难题。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种可有效提高电子产品可靠性的表面处理方法的新技术方案。根据本专利技术的第一方面，提供了一种电子器件表面处理方法。该电子器件表面处理方法包括如下步骤：(1)将电子器件浸入表面处理液中，所述表面处理液的溶质包括聚合硅氧烷和烷烃中的一种或多种，所述表面处理液的溶剂包括氢氟醚、丙酮和乙醇中的一种或多种，所述表面处理液中溶质的质量分数为0.1-2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子器件表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)将电子器件浸入表面处理液中，所述表面处理液的溶质包括聚合硅氧烷和烷烃中的一种或多种，所述表面处理液的溶剂包括氢氟醚、丙酮和乙醇中的一种或多种，所述表面处理液中溶质的质量分数为0.1‑20wt％,其中，所述烷烃的通式为CnH2n+2，11≤n≤16；(2)将电子器件自表面处理液中取出后放置在10‑200℃，湿度小于40％RH的环境中成膜5‑60min，以在电子器件的表面上形成3‑50nm的膜层。

【技术特征摘要】
1.一种电子器件表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)将电子器件浸入表面处理液中，所述表面处理液的溶质包括聚合硅氧烷和烷烃中的一种或多种，所述表面处理液的溶剂包括氢氟醚、丙酮和乙醇中的一种或多种，所述表面处理液中溶质的质量分数为0.1-20wt％,其中，所述烷烃的通式为CnH2n+2，11≤n≤16；(2)将电子器件自表面处理液中取出后放置在10-200℃，湿度小于40％RH的环境中成膜5-60min，以在电子器件的表面上形成3-50nm的膜层。2.根据权利要求1所述的电子器件表面处理方法，其特征在于，所述步骤(1)中的表面处理液的溶质包括聚合硅氧烷和至少一种烷烃，所述聚合硅氧烷和所述烷烃的质量比为1:4-1:6。3.根据权利要求2所述的电子器件表面处理方法，其特征在于，所述表面处理液中的溶质的质量分数为1-20wt％。4.根据权利要求1所述的电子器件表面处理方法，其特征在于，所述步骤(1)中表面处理液的溶剂包括氢氟醚、丙酮和乙醇，且氢氟醚在溶剂中的含量为30-50...

【专利技术属性】
技术研发人员：毛咏发，张允继，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山东,37