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本发明提供一种阵列基板及制备方法，所述方法包括以下步骤：先提供一基板，在所述基板上依次制备缓冲层、多晶硅层以及第一栅绝缘层；然后在所述第一栅绝缘层上制备一层第一栅极金属层，在所述第一栅极金属层上制备一层第一防光阻不黏金属膜，曝光显影后形成图...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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