下载一种提升芯片分离率的切割方法的技术资料

文档序号:19063339

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种提升芯片分离率的切割方法,在使用激光切割的过程中,通过对激光参数的调整,达到不同的切割深度,保证余留未切深度在20‑40μm的情况下,使芯片背面切割后,激光所留下的痕迹呈明显的开口式造型,提升芯片经人工或机器裂片后的分离率,...
该专利属于扬州虹扬科技发展有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过扬州虹扬科技发展有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。