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本发明提供一种电容式隔膜真空计及干刻蚀设备腔体压力测试系统。该电容式隔膜真空计包括：相邻的第一腔室和第二腔室、设于所述第一腔室和第二腔室之间的压力隔膜、设于所述第一腔室中的测量电极、设于所述第一腔室中并与测量电极间隔设置的参考电极以及设于所...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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