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本发明技术方案公开了一种接触孔的形成方法及图像传感器，所述接触孔的形成方法包括：提供半导体衬底，在半导体衬底上定义出逻辑区和像素区，逻辑区和像素区分别形成有器件结构；在像素区的器件结构上形成第一绝缘层；在逻辑区的器件结构上形成金属硅化物阻挡...
该专利属于德淮半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德淮半导体有限公司授权不得商用。

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