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本发明提供一种干刻蚀设备腔体气体侦测系统。该干刻蚀设备腔体气体侦测系统包括：腔体、设于所述腔体内的侦测传感器以及设于所述腔体外并与侦测传感器电性连接的监控设备；所述侦测传感器用于侦测腔体内干刻蚀气体的浓度，并反馈给监控设备；所述监控设备用于...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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