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本发明提供一种电阻测量方法及电阻测量装置，用于测量绝缘层的过孔位置的阻值，绝缘层的第一侧形成有第一导电图形，绝缘层的第二侧形成有第二导电图形；第一导电图形和第二导电图形通过所述绝缘层的过孔连接。其中，电阻测量方法包括：向第一导电图形施加第一...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。