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本发明公开了一种阵列基板，包括衬底、依次设于所述衬底上方的缓冲层、半导体层、覆盖在所述半导体层上表面的栅极绝缘层以及设于所述栅极绝缘层上方的栅电极层，位于所述半导体层的两相对侧的斜面与所述缓冲层的所成角度均为锐角，且所述斜面的粗糙度大于所述...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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