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具有均匀的径向氧变化的硅晶片制造技术
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下载具有均匀的径向氧变化的硅晶片的技术资料
文档序号:18822906
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本发明涉及在硅晶片的整个半径上测得的氧浓度的径向变化小于7%的硅晶片。...
该专利属于硅电子股份公司所有,仅供学习研究参考,未经过硅电子股份公司授权不得商用。
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