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本发明公开了一种柔性薄膜基底上微纳米结构的高精度制备方法，主要步骤如下：首先在高真空的条件下，将绷紧的柔性薄膜无间隙紧密地贴合在高平面度的硬质材料基底表面，实现柔性薄膜“硬质化”的目的，并且由于薄膜上下表面气压差以及薄膜与基底之间摩擦力的存...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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