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本发明公开了一种电磁屏蔽片及其制备方法。电磁屏蔽片的制备方法包括以下步骤：S1，在500～600℃范围内、保护气氛下热处理纳米晶带材；S2，取至少一层热处理后的纳米晶带材，将双面胶置于各层纳米晶带材层间以形成多层纳米晶带材，然后在所述多层纳...
该专利属于深圳顺络电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳顺络电子股份有限公司授权不得商用。

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