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本实用新型公开了一种更稳定的刻蚀下料装置，该刻蚀下料装置设有用于硅片装载盒升降的升降通道，在升降通道的里端面固定有背板，背板的前面竖直固定有左右两块对应的固定板，固定板与背板垂直，在固定板的前端沿边固定有用于与硅片装载盒背面的左右两条直槽相...
该专利属于晶澳（扬州）太阳能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过晶澳（扬州）太阳能科技有限公司授权不得商用。

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